Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.

προϊόντα

Σπίτι /

προϊόντα

Graphitization Furnace with 375L Loading Capacity 500x500x1500 Chamber Size and ±5℃ Temperature Uniformity for Semiconductor Purification

Λεπτομέρειες για το προϊόν

Τόπος καταγωγής: Χουνάν, Κίνα

Μάρκα: Jingtan

Όροι πληρωμής και αποστολής

Ποσότητα παραγγελίας min: 1

Τιμή: $56,000

Πάρτε την καλύτερη τιμή

Επαφή τώρα

Προδιαγραφές

Περιγραφή

Προδιαγραφές

Επισημαίνω: 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                          375L Loading Capacity Graphitization Furnace, 500x500x1500 Chamber Size Purification Furnace, ±5℃ Temperature Uniformity Vacuum Sintering Machine
                                                  

Τύπος:	Επαγωγικός Φούρνος	Δυναμικό:	380
Βάρος:	5 Τ	Περιορισμένη θερμοκρασία:	2400℃
Μέθοδος θέρμανσης:	Αντίσταση θέρμανσης γραφίτης	Μοντέλο ελέγχου:	Χειροκίνητο ή αυτόματο
Ατμόσφαιρα εργασίας:	Προστασία από κενό ή αδρανές αέριο	Χωρητικότητα φόρτωσης:	375L
Μέγεθος θαλάμου:	5005001500	Ομοιομορφία θερμοκρασίας:	± 5°C
Δομή φούρνων:	οριζόντιος	Υλικό σώματος φούρνου:	SS 304
ΖΩΝΗ ΥΨΗΛΗΣ ΘΕΡΜΟΚΡΑΣΙΑΣ:	5005001500	Διαφορά θερμοκρασίας:	± 5°C
Βασικά στοιχεία:	ΠΛΚ, δοχείο πίεσης, αντλία, κύλινδρο

Τύπος:	Επαγωγικός Φούρνος
Δυναμικό:	380
Βάρος:	5 Τ
Περιορισμένη θερμοκρασία:	2400℃
Μέθοδος θέρμανσης:	Αντίσταση θέρμανσης γραφίτης
Μοντέλο ελέγχου:	Χειροκίνητο ή αυτόματο
Ατμόσφαιρα εργασίας:	Προστασία από κενό ή αδρανές αέριο
Χωρητικότητα φόρτωσης:	375L
Μέγεθος θαλάμου:	5005001500
Ομοιομορφία θερμοκρασίας:	± 5°C
Δομή φούρνων:	οριζόντιος
Υλικό σώματος φούρνου:	SS 304
ΖΩΝΗ ΥΨΗΛΗΣ ΘΕΡΜΟΚΡΑΣΙΑΣ:	5005001500
Διαφορά θερμοκρασίας:	± 5°C
Βασικά στοιχεία:	ΠΛΚ, δοχείο πίεσης, αντλία, κύλινδρο

Περιγραφή

Graphitization Furnace with 375L Loading Capacity 500x500x1500 Chamber Size and ±5℃ Temperature Uniformity for Semiconductor Purification

Semiconductor Purification With Combination of Chemical and High Temperature Method Vacuum Sintering Heating Machine

Carbon Nanotube Purification Furnace

The combined purification treatment of high temperature method and chemical method. Suitable for new energy vehicles, semiconductors, new materials and many other fields.

Heat treatment of battery anode materials, powder metallurgy, nanomaterials, graphene, new materials and powder materials in vacuum atmosphere, and high temperature sintering and purification in an inert atmosphere.

Model	TCL-45	TCL-128	TCL-375	TCL-720	TCL-1568	TCL-2560	TCL-5000	TCL-7200	TCL-11700
High Temperature Zone (mm)	300300500	400400800	5005001500	6006002000	7007003200	8008004000	100010005000	120012005000	150015005200
Loading Capacity	45	128	375	720	1568	2560	5000	7200	11700
Temperature Difference	±5			±10			±15
Limit Temperature	2400
Heating Mode	resistance graphite rod heating
Control Model	manual or automatic operation
Working Atmosphere in the Furnace	vacuum or inert gas protection (micro positive pressure)

It can be used for high temperature graphitization purification of carbon nanotube materials, and can realize the purification treatment of high temperature method combined with chemical method.
It can realize continuous feeding and discharging at high temperature, reducing energy consumption and shortening production cycle.
Use resistance or induction heating, the temperature can reach 2400℃.
The combination of high temperature method and chemical method can meet the requirements of high purity treatment.
The efficient filtration system can effectively capture the dust and corrosive gases produced in the purification process.
It can realize continuous feeding and discharging at high temperature, reducing energy consumption and shortening production cycle.

Frequently Asked Questions

Are you a factory or trading company?

Yes, we are China leading high-temperature vacuum furnace manufacturer with 14+ years experience, granted with many patent certifications in the domestic market.

Do you have customization or OEM service?

Yes, we have powerful R&D team and high-tech equipment. We can supply both regular models and customizable furnaces according to client requirements.

What's your advantages?

Quick response to your enquiry
High quality control
Stable supply chain in the domestic market
Timely delivery
Excellent after-sales service, including engineer dispatch for installation and debugging

Contact Information

Tags:

Παρακαλούμε στείλτε μας το αίτημά σας και θα σας απαντήσουμε το συντομότερο δυνατό.

Στείλετε

φούρνος γραφιτισμού

Φούρνος συντριβής

Συνεχής φούρνος

φούρνος ανθράκωσης

φούρνος αποθέσεως

ηλεκτρικό εξοπλισμό επεξεργασίας θέρμανσης

Συσκευές και εξαρτήματα βοηθητικού εξοπλισμού κλιβάνου

Graphitization Furnace with 375L Loading Capacity 500x500x1500 Chamber Size and ±5℃ Temperature Uniformity for Semiconductor Purification

375L Loading Capacity Graphitization Furnace

500x500x1500 Chamber Size Purification Furnace

±5℃ Temperature Uniformity Vacuum Sintering Machine

Φούρνος συνεχούς γραφιτισμού,

Φούρνος γραφειοποίησης με επαγωγή,

Μηχανή γραφιστικοποίησης

Φούρνος γραφιτικοποίησης με επαγωγή κενού για ανθρακιοποίηση

Φούρνος συνεχούς γραφιτισμού τύπου επαγωγής 3000C για δομικά μέρη άνθρακα

Συνεχή θέρμανση με επαγωγή Φούρνος γραφειοποίησης κενού Υψηλή θερμοκρασία 3000C

Μίνι εργαστηριακό συντρίμμισμα Γκραφίτη κενό φούρνοι 3000C ευρύ εύρος θερμοκρασίας

Βιομηχανικός φούρνος υπεριώδους υψηλής θερμοκρασίας γραφιτισμού 3200 βαθμών ψύξη νερού

Κούφος θερμαντικής γραφίτισης υψηλής θερμοκρασίας με έξυπνη παρακολούθηση PLC

Αυτόματο έλεγχο Ηλεκτρικός κενός φούρνος γραφίτη 2600 βαθμούς υψηλή θερμοκρασία

Φούρνος γραφιτισμού παραγωγής θερμοοδηγούμενης ταινίας με αυτόματο έλεγχο PID

Βιομηχανικός φούρνος κλονισμού γραφίτη κενού 3000 βαθμών υψηλή θερμοκρασία

Φούρνος συνεχούς καθαρισμού υψηλής θερμοκρασίας 3000C για σκόνη γραφίτη

Φούρνος διάσπασης υψηλής θερμοκρασίας με μέθοδο ατμόσφαιρας αργονίου

φούρνος γραφιτισμού

Φούρνος συντριβής

Συνεχής φούρνος

φούρνος ανθράκωσης

φούρνος αποθέσεως

ηλεκτρικό εξοπλισμό επεξεργασίας θέρμανσης